Enhancing the ferroelectric performance of Hf0.5Zr0.5O2 films by optimizing the incorporation of Al dopant

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标题	Enhancing the ferroelectric performance of Hf0.5Zr0.5O2 films by optimizing the incorporation of Al dopant 优化Al掺杂剂掺入提高Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜的铁电性能相关领域材料科学铁电性掺杂剂电介质兴奋剂极化（电化学）光电子学薄膜分析化学（期刊）纳米技术物理化学化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6528/adaf2c AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1088/1361-6528/adaf2c doi
其它	期刊：Nanotechnology 作者：Xin Liu; Weidong Zhao; Jiawei Wang; Lulu Yao; Man Ding; et al 出版日期：2025-01-28
求助人	陈陈在 2025-02-19 14:46:30 发布自湖北，悬赏 10 积分
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