Ultrathin atomic layer deposited niobium oxide as a passivation layer in silicon based photovoltaics

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标题	Ultrathin atomic layer deposited niobium oxide as a passivation layer in silicon based photovoltaics 超薄原子层沉积氧化铌作为硅基光伏钝化层相关领域钝化 X射线光电子能谱悬空债券材料科学光伏氧化物铌硅原子层沉积氧化铌退火（玻璃）图层（电子）化学工程无机化学光电子学纳米技术化学冶金光伏系统生态学工程类生物
网址	https://doi.org/10.1063/5.0067281
DOI	10.1063/5.0067281 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Connor J. Leach; Benjamin E. Davis; Ben M. Garland; Ryan Thorpe; Nicholas C. Strandwitz 出版日期：2021-12-07
求助人	qaz 在 2024-12-12 20:13:05 发布自四川，悬赏 10 积分
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