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标题
Substrate damageless tri-layer process for advanced ArFi lithography
用于先进ArFi光刻的衬底无损三层工艺
相关领域
材料科学 图层（电子） 薄脆饼 基质（水族馆） 过程（计算） 平版印刷术 光电子学 纳米技术 计算机科学 海洋学 操作系统 地质学
网址
https://doi.org/10.1117/12.2297337
DOI
10.1117/12.2297337 doi
其它 期刊：
作者：Ichihiro Miura; Masayoshi Ishikawa; Yuushi Matsumura; Kazunori Takanashi; Tatsuya Sakai; et al
出版日期：2018-03-19
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明亮的初阳 在 2025-03-11 23:42:03 发布自北京，悬赏 20 积分
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