Atomic layer deposition of high-k and metal thin films for high-performance DRAM capacitors: a brief review

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标题	Atomic layer deposition of high-k and metal thin films for high-performance DRAM capacitors: a brief review 高性能DRAM电容器用高k和金属薄膜的原子层沉积相关领域德拉姆电容器动态随机存取存储器原子层沉积材料科学晶体管光电子学化学气相沉积纳米技术薄膜金属绝缘体金属计算机科学电气工程电子工程计算机硬件工程类电压半导体存储器
网址	https://doi.org/10.1016/j.cap.2024.05.011
DOI	10.1016/j.cap.2024.05.011 doi
其它	期刊：Current Applied Physics 作者：Se Eun Kim; Ju Young Sung; Yewon Yun; Byung Soo Jeon; Sang Mo Moon; et al 出版日期：2024-08-01
求助人	弯弯月亮在 2024-10-17 14:23:59 发布自湖北，悬赏 10 积分
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