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标题
Low-k a-SiCO:H films as diffusion barriers for advanced interconnects
低k a-SiCO：H薄膜作为先进互连的扩散阻挡层
相关领域
电介质 铜 材料科学 扩散阻挡层 低介电常数 介电常数 扩散 复合材料 高-κ电介质 铜互连 椭圆偏振法 分析化学（期刊） 光电子学 薄膜 纳米技术 化学 冶金 有机化学 物理 图层（电子） 热力学
网址
https://doi.org/10.1016/j.mee.2013.12.022
DOI
10.1016/j.mee.2013.12.022 doi
其它 期刊：Microelectronic Engineering
作者：Els Van Besien; Arjun Singh; Y. Barbarin; Patrick Verdonck; Harold Dekkers; et al
出版日期：2013-12-19
求助人
WGY_Pepper 在 2024-11-24 09:42:58 发布自山东，悬赏 10 积分
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