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Effect of deposition angle on the structure and properties of pulsed-DC magnetron sputtered TiAlN thin films
沉积角对脉冲直流磁控溅射TiAlN薄膜结构和性能的影响
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期刊:Thin Solid Films 作者:Akshath R. Shetty; A. Karimi; Marco Cantoni 出版日期:2011-03-16 |
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