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 Genetic optimization of aperiodic multilayer masks for high and hyper-numerical aperture extreme ultraviolet lithography 高和超数值孔径极紫外光刻非周期多层掩模的遗传优化
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期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：W. Maguire; Bruce W. Smith 出版日期：2024-11-28 |
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