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  Low temperature sputtering deposition of Al1−xScxN thin films: Physical, chemical, and piezoelectric properties evolution by tuning the nitrogen flux in (Ar + N2) reactive atmosphere Al 1-xScxon薄膜的低温溅镀沉积：通过调节（Al + N2）反应气氛中的氮通量来实现物理、化学和压电性能的演变
相关领域
溅射
氮气
焊剂（冶金）
大气（单位）
薄膜
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：M.A. Signore; A. Serra; D. Manno; Gianluca Quarta; Lucio Calcagnile; et al 出版日期：2024-03-26 |
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