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 Characterization of β-Ga2O3 homoepitaxial films and MOSFETs grown by MOCVD at high growth rates 高生长速率MOCVD生长β-Ga2O3同质外延薄膜和MOSFET的表征
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期刊： 作者：Marko J. Tadjer; Fikadu Alema; A. Osinsky; Michael A. Mastro; Neeraj Nepal; et al 出版日期：2021-04-12 |
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