标题 |
Fabrication of Low On‐Resistance and Normally Off AlGaN/GaN Metal Oxide Semiconductor Heterojunction Field‐Effect Transistors with AlGaN Back Barrier by the Selective Area Regrowth Technique
选择区域再生技术制备AlGaN背势垒低导通常关AlGaN/GaN金属氧化物半导体异质结场效应晶体管
相关领域
材料科学
光电子学
异质结
阻挡层
图层(电子)
晶体管
化学气相沉积
金属有机气相外延
宽禁带半导体
纳米技术
外延
电气工程
电压
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:physica status solidi (a) 作者:Jumpei Tajima; Toshiki Hikosaka; Shinya Nunoue 出版日期:2023-06-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|