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 Analysis of optical emission spectroscopy data during silicon etching in SF6/O2/Ar plasma SF6/O2/Ar等离子体硅刻蚀过程中的发射光谱数据分析
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期刊：Plasma Science & Technology 作者：Dong‐Hwan Kim; Jeong Eun Choi; Sang Jeen Hong 出版日期：2021-10-12 |
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