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Atomic layer deposition of tungsten film from WF6/B2H6: Nucleation layer for advanced semiconductor devices
先进半导体器件成核层WF6/B2H6钨膜的原子层沉积
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期刊： 作者：Mengsu Yang; Hua Chung; Alex Yoon; Hongbin Fang; Amy Zhang; et al 出版日期：2001-01-01 |
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