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![]() 含氧空位和暴露{0 0 1}面的BiVO4纳米片对土霉素光降解的尺寸依赖性
相关领域
化学工程
可见光谱
带隙
降级(电信)
光化学
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期刊:Chemical Engineering Journal 作者:Jie Xu; Zhaoyong Bian; Xin Xin; Acong Chen; Hui Wang 出版日期:2017-12-01 |
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