Strengthening mechanism of Si, V and Ti atoms to the Ag/AlN interface: a study from first-principles calculations

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标题	Strengthening mechanism of Si, V and Ti atoms to the Ag/AlN interface: a study from first-principles calculations Si、V和Ti原子对Ag/AlN界面的强化机制：第一性原理计算研究相关领域掺杂剂钎焊材料科学共价键离子键合堆积粘附金属化学键结晶学兴奋剂化学合金复合材料离子冶金光电子学有机化学
网址	https://doi.org/10.1039/d0cp05102k
DOI	10.1039/d0cp05102k doi
其它	期刊：Physical Chemistry Chemical Physics 作者：Wenshan Bian; Runlin Li; Weibing Guo; Haitao Xue; Xiaoming Zhang 出版日期：2020-01-01
求助人	战场螃蟹在 2024-12-25 16:34:16 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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