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标题
Optimization of contact W related processes for 28/22 nm HKMG technology node
28/22nm HKMG技术节点接触W相关工艺的优化
相关领域
蚀刻（微加工） 沉积（地质） 材料科学 计算机科学 节点（物理） 过程（计算） 纳米技术 光电子学 工程类 图层（电子） 结构工程 沉积物 生物 操作系统 古生物学
网址
https://doi.org/10.1109/edtm50988.2021.9420977
DOI
10.1109/edtm50988.2021.9420977 doi
其它 期刊：IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference
作者：Hai-Jin Lu; Zong-Yan Pan; Pei-Yu Chen; Zhi-Cheng Zhang; Ming-Zhi Chen
出版日期：2021-04-08
求助人
若水琉璃默ღ⁶⁶⁶ 在 2024-11-24 09:41:50 发布自湖北，悬赏 10 积分
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