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 Reaction kinetics during the thermal activation of the silicon surface passivation with atomic layer deposited Al2O3 原子层沉积Al2O3对硅表面钝化的热活化反应动力学
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Armin Richter; Jan Benick; Martin Hermle; Stefan W. Glunz 出版日期：2014-02-10 |
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