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标题
Electrochemical Deposition of Copper(I) Oxide Films
氧化铜(I)薄膜的电化学沉积
相关领域
铜 氧化物 材料科学 带隙 电化学 沉积（地质） 分析化学（期刊） 肖特基势垒 无机化学 化学 冶金 光电子学 电极 物理化学 古生物学 沉积物 色谱法 二极管 生物
网址
https://doi.org/10.1021/cm9602095
AI链接 osti.gov unt.edu unt.edudoi.org
DOI
10.1021/cm9602095 doi
其它 期刊：Chemistry of Materials
作者：Teresa D. Golden; Mark G. Shumsky; Yanchun Zhou; Rachel A. VanderWerf; Robert A. Van Leeuwen; et al
出版日期：1996-01-01
求助人
nanfeng 在 2024-11-19 09:30:52 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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