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Review of essential use of fluorochemicals in lithographic patterning and semiconductor processing
氟化物在光刻图形和半导体加工中的必要用途综述
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期刊:Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者:Christopher K. Ober; Florian Käfer; Jingyuan Deng 出版日期:2022-03-31 |
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