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标题
Atomic-scale defects generated in the early/intermediate stages of dielectric breakdown in Si/SiO2 transistors
Si/SiO2晶体管介电击穿早期/中期产生的原子级缺陷
相关领域
材料科学 硅 悬空债券 原子单位 电介质 凝聚态物理 磁电阻 超精细结构 晶体管 再分配（选举） 光电子学 磁场 原子物理学 电气工程 物理 量子力学 电压 政治 法学 政治学 工程类
网址
https://doi.org/10.1063/5.0077946
AI链接 osti.gov osti.govdoi.org
DOI
10.1063/5.0077946 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Stephen J. Moxim; Fedor V. Sharov; David Russell Hughart; Gaddi S. Haase; Colin G. McKay; et al
出版日期：2022-02-07
求助人
diraczh 在 2025-04-28 21:23:30 发布自重庆，悬赏 10 积分
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