Method for illumination uniformity correction in the illumination system of lithography

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标题	Method for illumination uniformity correction in the illumination system of lithography 光刻照明系统中照明均匀性校正方法相关领域光学平版印刷术透射率补偿（心理学）强度（物理）卷积（计算机科学）偏移量（计算机科学）材料科学计算机科学物理人工智能精神分析心理学人工神经网络程序设计语言
网址	https://doi.org/10.1016/j.ijleo.2020.166172
DOI	10.1016/j.ijleo.2020.166172 doi
其它	期刊：Optik 作者：Yi He; Tingwen Xing; Lin Wan-Tao; Zhirong Liao; Weijing Liu 出版日期：2021-02-01
求助人	cgl155410 在 2024-07-08 15:22:40 发布自广东，悬赏 10 积分
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