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 Annealing of dry etch damage in metallized and bare (-201) Ga2O3 金属化和裸（-201）Ga2O3干蚀损伤的退火
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期刊：Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics 作者：Jiancheng Yang; F. Ren; Raghav Khanna; Kristen Bevlin; Dwarakanath Geerpuram; et al 出版日期：2017-07-25 |
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