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C4F6 1,3 Hexafluorobutadiene - A New Etching Gas: Studies on Material Compatibility, Behavior in Inductively Coupled Plasma and Etch Processes Performance
C4F6 1,3六氟丁二烯——一种新的蚀刻气体：材料相容性、电感耦合等离子体行为和蚀刻工艺性能的研究
相关领域
相容性（地球化学） 感应耦合等离子体 材料科学 环境科学 等离子体 化学 环境化学 纳米技术 分析化学（期刊） 工艺工程 复合材料 工程类 物理 量子力学
网址
https://www.nist.gov/publications/c4f6-13-hexafluorobutadien...
AI链接 nist.gov
DOI
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其它 期刊：
作者：Ariel Nicoletti; P. Srinivasan; M Riva; Eric C. Benck; A. N. Goyette; et al
出版日期：2003-06-01
求助人
快乐书琴 在 2025-02-22 12:03:14 发布自德国，悬赏 10 积分
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