标题 |
Effect of Cl2 Radical on Dry Development of Spin-Coated Metal Oxide Resist
Cl2自由基对旋涂金属氧化物抗蚀剂干显影的影响
相关领域
抵抗
材料科学
氧化物
金属
无机化学
纳米技术
冶金
化学
图层(电子)
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其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Soo Namgoong; Heeju Kim; Yeo Kyung Kang; Min Cheol Kim; Yun Jong Jang; et al 出版日期:2024-09-12 |
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