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标题
Technology Trends for Photoresist and Research on Photo Acid Generator for Chemical Amplified Photoresist
光刻胶技术动态及化学放大光刻胶光酸发生器的研究
相关领域
光刻胶 阳离子聚合 抵抗 化学 热稳定性 材料科学 扩散 高分子化学 光化学 有机化学 物理 图层（电子） 热力学
网址
http://ocean.kisti.re.kr/downfile/volume/ricns/GCOGBD/2009/v...
AI链接 re.kr
DOI
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其它 期刊：Journal of the Chosun Natural Science
作者：Sung‐Hoon Kim; Sang‐Tae Kim
出版日期：2009-01-01
求助人
虚心盼夏 在 2024-12-19 20:23:41 发布自上海，悬赏 10 积分
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