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 Actinic mask inspection for the era of high-numerical aperture extreme ultraviolet lithography 面向高数值孔径极紫外光刻时代的光化掩模检测
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期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Ted Liang; Hiroki Miyai; Şafak Sayan; Moriji Mizoguchi; K.I. Gondaira; et al 出版日期：2024-10-31 |
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