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  High aspect ratio arrays of Si nano-pillars using displacement Talbot lithography and gas-MacEtch 基于位移Talbot光刻和气相沉积的高纵横比硅纳米柱阵列
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期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Zhitian Shi; Konstantins Jefimovs; Marco Stampanoni; Lucia Romano 出版日期：2023-01-07 |
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