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![]() 使用新型相和暗场X射线成像对先进封装进行缺陷特征
相关领域
暗场显微术
表征(材料科学)
干涉测量
光学
相(物质)
X射线
散射
相衬显微术
领域(数学)
对比度(视觉)
半导体
材料科学
物理
光电子学
显微镜
数学
量子力学
纯数学
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期刊:EDFA Technical Articles 作者:S. H. Lau; Sheraz Gul; Guibin Zan; D. J. Vine; Sylvia Lewis; et al 出版日期:2020-08-01 |
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