标题 |
![]() 原子层磊晶法生长氧化物薄膜
相关领域
原子层外延
无定形固体
薄膜
扫描电子显微镜
外延
化学计量学
材料科学
氧化铌
分析化学(期刊)
图层(电子)
铌
卢瑟福背散射光谱法
原子层沉积
衍射
大气温度范围
氧化物
电子衍射
沉积(地质)
折射率
结晶学
化学
光学
纳米技术
光电子学
复合材料
冶金
物理化学
古生物学
气象学
物理
生物
色谱法
沉积物
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Chemical Vapor Deposition 作者:Kaupo Kukli; Mikko Ritala; Markku Leskelä; Reijo Lappalainen 出版日期:1998-01-01 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|