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 Electronic Passivation of Crystalline Silicon Surfaces Using Spatial‐Atomic‐Layer‐Deposited HfO2 Films and HfO2/SiNx Stacks 空间原子层沉积HfO2薄膜和HfO2/SiNx堆叠对晶体硅表面的电子钝化
相关领域
钝化
材料科学
硅
图层（电子）
原子层沉积
晶体硅
光电子学
纳米技术
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| 其它 |
期刊：physica status solidi (RRL) - Rapid Research Letters 作者：Jan Schmidt; Michael Winter; F.M.M. Souren; Jons Bolding; Hindrik de Vries 出版日期：2024-10-07 |
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