Molecular dynamics simulation of Si and SiO2 reactive ion etching by fluorine-rich ion species

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标题	Molecular dynamics simulation of Si and SiO2 reactive ion etching by fluorine-rich ion species 富氟离子物种反应离子刻蚀Si和SiO2的分子动力学模拟相关领域蚀刻（微加工）材料科学反应离子刻蚀离子硅氮化硅分子动力学氟分析化学（期刊）化学物理纳米技术光电子学计算化学化学冶金图层（电子）有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2019.125032
DOI	10.1016/j.surfcoat.2019.125032 doi
其它	期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Erin Joy Capdos Tinacba; Michiro Isobe; Kazuhiro Karahashi; Satoshi Hamaguchi 出版日期：2019-10-14
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