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 Effect of layer and stacking sequence in simultaneously grown 2H and 3R WS2 atomic layers 同时生长的2H和3R WS2原子层中层和堆叠顺序的影响
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期刊：Nanotechnology 作者：Ruilong Yang; Shanghuai Feng; Xunyong Lei; Xiaoyu Mao; Anmin Nie; et al 出版日期：2019-05-20 |
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