Moisture Barrier Properties of Al2O3 Films deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition at Low Temperatures

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标题	Moisture Barrier Properties of Al2O3 Films deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition at Low Temperatures 低温远程等离子体原子层沉积Al2O3薄膜的阻湿性能相关领域 X射线光电子能谱分析化学（期刊）原子层沉积水分材料科学沉积（地质）傅里叶变换红外光谱渗透阻挡层图层（电子）远程等离子体化学化学气相沉积化学工程纳米技术复合材料色谱法膜古生物学工程类生物生物化学沉积物
网址	https://iopscience.iop.org/article/10.7567/JJAP.52.035502
DOI	10.7567/jjap.52.035502 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Hagyoung Choi; Sanghun Lee; Hyunsoo Jung; Seokyoon Shin; Giyul Ham; et al 出版日期：2013-03-02
求助人	苗山柳在 2024-11-05 10:09:41 发布自山西，悬赏 10 积分
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