Design of large horizontal gallium nitride hydride vapor-phase epitaxy equipment and optimization of process parameters

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标题	Design of large horizontal gallium nitride hydride vapor-phase epitaxy equipment and optimization of process parameters 大型卧式氮化镓氢化物气相外延设备设计及工艺参数优化相关领域外延氮化镓材料科学氢化物光电子学镓迷惑沉积（地质）体积流量氮化物化学气相沉积薄膜计算流体力学机械工程纳米技术机械工程类冶金图层（电子）古生物学沉积物生物物理金属
网址	https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2023.127231
DOI	10.1016/j.jcrysgro.2023.127231 doi
其它	期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Dengfei Liu; Yu Xiong; Jian Li; Wenjia Xiao; Gang Wang 出版日期：2023-04-28
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