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 X-ray critical dimension metrology solution for high aspect ratio semiconductor structures 半导体高宽比结构的X射线临界尺寸测量方法
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期刊：Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV 作者：Matthew Wormington; Adam Ginsburg; Israel Reichental; Alex Dikopoltsev; Alex Krokhmal; et al 出版日期：2021-02-22 |
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