Growth kinetics and reaction mechanism of silicon chemical vapour deposition from silane

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标题	Growth kinetics and reaction mechanism of silicon chemical vapour deposition from silane 硅烷化学气相沉积硅的生长动力学及反应机理相关领域硅烷化学气相沉积硅沉积（地质）化学惰性气体动力学多晶硅化学反应化学工程化学动力学燃烧化学气相沉积非晶硅材料科学晶体硅物理化学薄膜纳米技术有机化学碳膜物理古生物学电极量子力学沉积物工程类生物薄膜晶体管
网址	https://doi.org/10.1016/0040-6090(93)90522-q
DOI	10.1016/0040-6090(93)90522-q doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Meng Tao 出版日期：1993-02-01
求助人	的说海底捞在 2024-10-17 15:10:19 发布自河南，悬赏 10 积分
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