Characterization and dressing effect of CMP diamond disc conditioner with ordered abrasive distribution

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标题	Characterization and dressing effect of CMP diamond disc conditioner with ordered abrasive distribution 磨料分布有序CMP金刚石圆盘修整器的表征及修整效果相关领域抛光磨料材料科学化学机械平面化钻石薄脆饼表面粗糙度复合材料表面光洁度光学显微镜工程制图光学光电子学扫描电子显微镜物理工程类
网址	https://doi.org/10.21203/rs.3.rs-2408757/v1 AI链接 researchsquare.comdoi.org
DOI	10.21203/rs.3.rs-2408757/v1 doi
其它	期刊：Research Square (Research Square) 作者：Zenghui Guo; Songhao Yang; Wen Zhenhui; Li Jingyu; Cheng Jun 出版日期：2023-01-03
求助人	Lee 在 2024-10-14 08:46:06 发布自浙江，悬赏 10 积分
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