标题 |
Implementation of sub-100 nm vertical channel-all-around (CAA) thin-film transistor using thermal atomic layer deposited IGZO channel
使用热原子层沉积IGZO沟道实现亚100nm垂直沟道全方位(CAA)薄膜晶体管
相关领域
薄膜晶体管
材料科学
原子层沉积
光电子学
德拉姆
晶体管
动态随机存取存储器
图层(电子)
频道(广播)
纳米技术
电气工程
电压
工程类
半导体存储器
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Semiconductors 作者:Yu‐Ting Chen; Xinlv Duan; Xueli Ma; Yuan Peng; Zhengying Jiao; et al 出版日期:2024-07-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|