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 Combining block copolymer lithography with self-aligned double patterning to achieve 10.5 nm full-pitch line/space patterns 嵌段共聚物光刻与自对准双图案相结合实现10.5 nm全间距线/间距图案
相关领域
材料科学
共聚物
平版印刷术
缩放比例
多重图案
直线（几何图形）
图层（电子）
块（置换群论）
纳米技术
光电子学
复合材料
抵抗
聚合物
几何学
数学
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