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 (Invited) Cutting-Edge Epitaxial Processes for Sub 3 Nm Technology Nodes: Application to Nanosheet Stacks and Epitaxial Wrap-Around Contacts （特邀）亚3纳米技术节点的尖端外延工艺：在纳米片堆叠和外延环绕触点中的应用
相关领域
材料科学
外延
纳米片
兴奋剂
光电子学
堆积
CMOS芯片
电阻率和电导率
晶体管
GSM演进的增强数据速率
节点（物理）
硅
纳米技术
电气工程
图层（电子）
计算机科学
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电信
结构工程
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期刊：ECS Transactions 作者：Andriy Yakovitch Hikavyy; Clement Porret; Manuel Mencarelli; Roger Loo; Paola Favia; et al 出版日期：2021-10-01 |
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