Atomic layer deposited high quality AlN thin films for efficient thermal management

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标题	Atomic layer deposited high quality AlN thin films for efficient thermal management 用于高效热管理的原子层沉积高质量AlN薄膜相关领域材料科学图层（电子）原子层沉积薄膜薄层光电子学纳米技术
网址	https://doi.org/10.1039/d3ta04618d
DOI	10.1039/d3ta04618d doi
其它	期刊：Journal of materials chemistry. A, Materials for energy and sustainability 作者：Wangle Zhang; Jianguo Li; Jia Bin Fang; Longfei Hui; Lijun Qin; et al 出版日期：2023-01-01
求助人	勤恳书本在 2024-03-25 08:31:39 发布自江苏，悬赏 10 积分
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