The determination of phases formed in AlSiCu/TiN/Ti contact metallization structure of integrated circuits by x-ray diffraction

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标题	The determination of phases formed in AlSiCu/TiN/Ti contact metallization structure of integrated circuits by x-ray diffraction 用x射线衍射法测定集成电路AlSiCu/TiN/Ti接触金属化组织中形成的相相关领域锡材料科学退火（玻璃）再结晶（地质）扩散阻挡层透射电子显微镜阻挡层高分辨率透射电子显微镜结晶学分析化学（期刊）冶金图层（电子）复合材料纳米技术化学古生物学色谱法生物
网址	https://doi.org/10.1063/1.366710
DOI	10.1063/1.366710 doi
其它	期刊：Journal of applied physics 作者：Vincent Fortin; G. Gagnon; Mario Caron; S. C. Gujrathi; J. F. Currie; et al 出版日期：1998-01-01
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