Growth and characterization of SiGe/Si superlattice for vertically stacked DRAM - 科研通

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标题	Growth and characterization of SiGe/Si superlattice for vertically stacked DRAM 垂直堆叠DRAM用SiGe/Si超晶格的生长与表征相关领域材料科学超晶格德拉姆表征（材料科学）光电子学工程物理纳米技术工程类
网址	https://doi.org/10.1007/s10854-024-14167-y
DOI	10.1007/s10854-024-14167-y doi
其它	期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics 作者：Hailing Wang; Xiangsheng Wang; Yanpeng Song; Xiaomeng Liu; Ying Zhang; et al 出版日期：2025-01-01
求助人	高半青在 2025-03-12 09:15:04 发布自北京，悬赏 10 积分
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