Fast source mask co-optimization method for high-NA EUV lithography

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标题	Fast source mask co-optimization method for high-NA EUV lithography 用于高NA EUV光刻的快速源掩模协同优化方法相关领域极紫外光刻平版印刷术材料科学下一代光刻光学光电子学物理抵抗纳米技术电子束光刻图层（电子）
网址	https://doi.org/10.29026/oea.2024.230235
DOI	10.29026/oea.2024.230235 doi
其它	期刊：Opto-Electronic Advances 作者：Ziqi Li; Lisong Dong; Xu Ma; Yayi Wei 出版日期：2024-01-01
求助人	大松鼠在 2024-08-28 17:10:07 发布自浙江，悬赏 10 积分
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