Ion beam etch for the patterning of advanced absorber materials for EUV masks

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标题	Ion beam etch for the patterning of advanced absorber materials for EUV masks 用于EUV掩模高级吸收材料图案化的离子束刻蚀相关领域材料科学极紫外光刻光电子学抵抗离子图层（电子）摩尔吸收率离子束蚀刻（微加工）纳米技术光学化学物理有机化学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2537992
DOI	10.1117/12.2537992 doi
其它	期刊：作者：Katrina Rook; Narasimhan Srinivasan; Vincent Ip; Meng Lee; Tania Henry 出版日期：2019-06-27
求助人	zml 在 2024-05-26 20:41:32 发布自上海，悬赏 20 积分
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