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 Improvement of low-frequency noise behavior with chloridic precursor materials at ALD process 氯化物前驱体材料改善ALD工艺低频噪声行为
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期刊：Memories - Materials Devices Circuits and Systems 作者：Daniel Hessler; Ricardo Olivo; Tim Baldauf; Konrad Seidel; Raik Hoffmann; et al 出版日期：2023-12-29 |
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