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X-ray focusing below 3 nm with aberration-corrected multilayer Laue lenses
用像差校正的多层劳厄透镜聚焦3nm以下的X射线
相关领域
光学
物理
材料科学
X射线光学
X射线
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期刊:Optics Express 作者:J. Lukas Dresselhaus; Margarita Zakharova; N. G. Ivanov; Holger Fleckenstein; Mauro Prasciolu; et al 出版日期:2024-04-03 |
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