| 标题 |
 High-temperature atomic layer deposition of HfO2 film with low impurity using a novel Hf precursor 用新型Hf前驱体高温原子层沉积低杂质HfO2薄膜
相关领域
材料科学
杂质
原子层沉积
特里斯
图层（电子）
沉积（地质）
薄膜
化学气相沉积
分析化学（期刊）
化学工程
纳米技术
有机化学
化学
古生物学
生物化学
沉积物
工程类
生物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Jae Chan Park; Chang Ik Choi; Woong Pyo Jeon; Tran Thi Ngoc Van; Woo‐Hee Kim; et al 出版日期：2024-12-28 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
无名老大
乐乐乐乐乐乐
VDC
YifanWang
Polymer72
加菲丰丰
Magali
sutharsons
快乐滑板
shinysparrow
无敌反派大美人
JIA
FIN
舒心的平松
tuanheqi
AireenBeryl531
kingwill
子车茗
加湿器
皖公网安备34019202002308
