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Effect of Al2O3 layer thickness on leakage current and dielectric properties of atomic layer deposited Al2O3/TiO2/Al2O3 nano-stack
Al2O3层厚度对原子层沉积Al2O3/TiO2/Al2O3纳米叠层漏电流和介电性能的影响
相关领域
材料科学 原子层沉积 泄漏（经济） 电介质 电容 光电子学 电流密度 等效氧化层厚度 高-κ电介质 阻挡层 带隙 制作 氧化物 薄膜 图层（电子） 栅氧化层 纳米技术 电压 电气工程 电极 化学 晶体管 经济 冶金 物理化学 宏观经济学 工程类 物理 量子力学 替代医学 病理 医学
网址
https://doi.org/10.1007/s10854-023-10615-3
DOI
10.1007/s10854-023-10615-3 doi
其它 期刊：Journal of Materials Science: Materials in Electronics
作者：P. S. Padhi; R. S. Ajimsha; Sanjay Kumar; Aniruddha Bose; Pankaj Misra
出版日期：2023-05-01
求助人
DodoWang 在 2025-01-07 14:05:07 发布自上海，悬赏 10 积分
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