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Thermal annealing induced competition of oxidation and grain growth in nickel thin films
热退火诱导镍薄膜氧化和晶粒生长的竞争
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DOI
10.1016/j.tsf.2019.04.034 doi
其它 期刊:Thin Solid Films
作者:Lisha Raghavan; Sunil Ojha; Indra Sulania; N. C. Mishra; K. M. Ranjith; et al
出版日期:2019-04-24
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武紫安 在 2025-02-14 16:59:56 发布自浙江,悬赏 10 积分
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