Geometry-based Curvilinear Mask Process Correction for Enhanced Pattern Fidelity, Contrast, and Manufacturability

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标题	Geometry-based Curvilinear Mask Process Correction for Enhanced Pattern Fidelity, Contrast, and Manufacturability 用于增强图案保真度、对比度和可制造性的基于几何的曲线掩模工艺校正相关领域可制造性设计曲线坐标过程（计算）工程制图工程类计算机科学忠诚材料科学几何学机械工程数学电气工程操作系统
网址	https://doi.org/10.1109/tsm.2024.3521368
DOI	10.1109/tsm.2024.3521368 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者：Chun-Hung Liu; Ze-An Din 出版日期：2024-01-01
求助人	勤劳怜寒在 2024-12-28 18:32:53 发布自四川，悬赏 10 积分
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